光刻机是半导体芯片生产过程中的关键设备。
光刻机所使用的光源的波长直接决定了芯片的工艺水平。
例如，最先进的芯片制造工艺（7nm5nm等）与EUV极紫外光刻机密不可分，并且该光刻机的唯一全球供应商是荷兰的ASML。
最近，根据《通化顺财经新闻》，荷兰ASML首席财务官Roger Dassen在财务报告会议上的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务状况。
罗杰·达森（Roger Dassen）表示，如果您大致了解美国针对ASML的法规（针对特定的中国客户）的整体含义，则意味着ASML将能够在没有出口许可证的情况下向这些中国客户提供荷兰的DUV光刻系统。
但是，如果涉及直接从美国运送到此类客户的零件或系统，则ASML需要为此申请出口许可证。
21ic family指出，ASML最近宣布了其第三季度财务报告。
在本季度，ASML总共交付了10台EUV系统，实现了14台系统的销售，总销售额达到40亿欧元。
同时，第三季度的新订单达到29亿欧元，其中5.95亿欧元来自4辆EUV设备。
财务报告还宣布了其两个系列的光刻机产品的最新发展。
其中，在EUV光刻业务领域，大多数TWINSCAN NXE：3400B系统都已在客户处同时使用生产率模块进行了升级。
同时，ASML还发布了其EUV路线图上的最新模型：TWINSCAN NXE：3600D。
这款EUV光刻机每小时可对160个晶片实现30mJ / cm2的曝光能量，生产率提高了18％，并且得到了改善。
该机器的雕刻精度达到1.1纳米。
新的EUV光刻机预计将于2021年中期开始发货。
在DUV光刻业务领域，ASML已于本季度完成了首款TWINSCAN NXT：2050i的质量认证，并于第四季度初发货。
NXT：2050i是基于NXT平台的新版本，其中包括对标线片台，晶片台，投影物镜和曝光激光的技术改进。
由于这些创新，该系统比其前身可以更好地控制雕刻精度，并具有更高的生产率。
NXT：2050i已进入量产阶段。
